温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种拼接曝光方法、阵列基板和电子设备，该方法包括：针对第一膜层，按照第一预设曝光区拼接缝对所述第一膜层进行拼接曝光，其中，所述第一预设曝光区拼接缝与所述第一膜层的第一预设图形的边界之间的夹角小于第一预设角度，且所述第一预设曝光区拼...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。