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本发明公开了一种用于外延预清洁腔室的预处理方法，该方法包含：提供一外延预清洁腔室；均一化处理：分别向所述腔室通入第一预处理气体及第二预处理气体，使得所述第一预处理气体与所述第二预处理气体反应形成的复合物吸附在所述腔室内壁表面，以提供稳定的化...
该专利属于中微半导体（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体（上海）有限公司授权不得商用。

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