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本发明公开了一种掩膜版霉点抑制方法，涉及掩膜版清洗方法领域，包括采用真空微波高压电场环境将掩膜版亚表面层的钠离子进行向掩膜版内部迁移。本发明通过采用真空微波高压电场环境将掩膜版亚表面层的钠离子进行向掩膜版内部迁移，掩膜版表面钠离子含量降低到...
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