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本技术属于晶圆刻蚀设备技术领域，具体地说是一种晶圆刻蚀设备的晶圆背面防污染结构，包括晶背防护罩，还包括若干组配合设置的直喷管、螺纹堵头及弹性涨紧圈，晶背防护罩的顶部上开设有若干个喷管安装孔道，每个喷管安装孔道分别与对应的一组直喷管、螺纹堵头...
该专利属于沈阳芯源微电子设备股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯源微电子设备股份有限公司授权不得商用。

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