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本申请公开了一种原子层沉积镀膜方法，该镀膜方法包括至少一个镀膜循环工艺，镀膜循环工艺包括：向容置有基体的反应装置内通入第一工艺气体，其中，第一工艺气体包括第一反应气体和惰性气体，且第一工艺气体的通入时长范围为0.1s‑5s；封闭反应装置，使...
该专利属于江苏微导纳米科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏微导纳米科技股份有限公司授权不得商用。

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