【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光伏领域，半导体领域和电池领域，特别是涉及一种原子层沉积镀膜方法。
技术介绍
1、随着半片组件、叠瓦组件等新型组件技术的兴起，在制作组件时需要将一块电池分割成两片或多片。电池裂开的断面表面复合速率很大，会对太阳电池的电性能产生较大的影响。为了降低这种切割损失，其中一种方法是对电池切割边缘进行钝化。边缘钝化是指通过沉积的方式在电池切割面表面形成一层钝化膜，从而起到降低少子复合、提供场钝化效应、降低反射率的作用。
2、目前，ald(atomic layer deposition，原子层沉积)技术应用在边缘钝化技术上或者切片电池的切割面沉积技术上时，存在钝化效果不佳，以及在非切割表面上沉积有钝化膜、从而产生绕镀现象的问题。
技术实现思路
1、本申请主要解决的技术问题是提供一种原子层沉积镀膜方法，能够保证沉积钝化膜的效果的同时降低绕镀问题。
2、为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种原子层沉积镀膜方法，所述镀膜方法包括至少一个镀膜循环工艺，所述镀...
【技术保护点】
1.一种原子层沉积镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括至少一个镀膜循环工艺，所述镀膜循环工艺包括：
2.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，在进入第一个所述镀膜循环工艺之前，所述镀膜方法还包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述反应装置进行第一吹扫处理的步骤包括：
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，
5.根据权利要求1-4任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述对所述反应装置进行第二吹扫处理的步骤包括：
6.根据权利要求1-4任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述封闭所述...
【技术特征摘要】
1.一种原子层沉积镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括至少一个镀膜循环工艺，所述镀膜循环工艺包括：
2.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，在进入第一个所述镀膜循环工艺之前，所述镀膜方法还包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述反应装置进行第一吹扫处理的步骤包括：
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，
5.根据权利要求1-4任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述对所述反应装...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨柳，廖宝臣，范方宇，
申请(专利权)人：江苏微导纳米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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