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本发明涉及氧化镓材料优化技术领域，特别涉及氧化镓微观缺陷电学特性调节方法及系统，包括使用明场成像模式获取的氧化镓材料的整体结构图像，基于整体结构图像确定缺陷敏感区域；获取检查区域的暗场图像、高分辨率图像；将采集的暗场图像和高分辨率图像输入到...
该专利属于青岛华芯晶电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛华芯晶电科技有限公司授权不得商用。

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