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本发明公开具有嵌套斯格明子的BiFeO<subgt;3</subgt;薄膜及其制备方法与应用，涉及嵌套斯格明子材料技术领域，具有嵌套斯格明子的BiFeO<subgt;3</subgt;薄膜的制备方法包括步骤：以Bi&...
该专利属于松山湖材料实验室所有，仅供学习研究参考，未经过松山湖材料实验室授权不得商用。

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