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本发明涉及一种掩模版，包括基底和掩模结构，所述掩模结构固定在所述基底之上，所述掩模结构具有图案，所述图案由矩阵排列的第十一图形构成，所述第十一图形包括形状各不相同的第一图形、第二图形、第三图形和第四图形。本发明还涉及一种基于掩模版的误差参数...
该专利属于宁波冠石半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁波冠石半导体有限公司授权不得商用。

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