一种掩模版及误差参数获取方法技术

本发明专利技术涉及一种掩模版，包括基底和掩模结构，所述掩模结构固定在所述基底之上，所述掩模结构具有图案，所述图案由矩阵排列的第十一图形构成，所述第十一图形包括形状各不相同的第一图形、第二图形、第三图形和第四图形。本发明专利技术还涉及一种基于掩模版的误差参数获取方法，通过量测第一图形、第二图形、第三图形和第四图形中的形状尺寸获得误差参数。利用本发明专利技术设计的一种掩模版及误差参数获取方法，能够解决当生产光罩需要转移到另外一台生产机台时，现有技术中通常使用光罩设备供应商提供的图形进行验证，光罩设备供应商提供的参数验证的图形难以覆盖全部技术点且缺乏对误差的具体化表现，导致后续的生产的光罩难以满足用户需求的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造，具体涉及一种掩模版及误差参数获取方法。

技术介绍

1、光罩在生产过程中为了避免机台宕机时造成的生产线停止运作的情况发生，需要进行同站点内不同设备之间的工艺验证，来保证当其中一台设备宕机时，可以将其所跑的产品转移到另一机台内。对于光罩写入机台的验证都是用光罩设备供应商提供的图形来进行参数的验证，由于每台光罩写入机台设备参数不是完全相同，产品转移时生产出来的光罩会存在误差。通常情况下，会使用光罩设备供应商提供的图形进行验证，但是验证时缺少表现误差的数据，也就难以获得用户需要的光罩。

2、即，当生产光罩的机台宕机时，需要将产品转移到另外一台生产机台中，但是现有技术中通常使用光罩设备供应商提供的图形进行验证，光罩设备供应商提供的参数验证的图形难以覆盖全部技术点且缺乏对误差的具体化表现，导致后续的生产的光罩难以满足用户需求。

3、因此，现有技术存在缺陷，有待改进与发展。

技术实现思路

1、本专利技术实施例提供一种掩模版及误差参数获取方法，用于解决当生产光罩的机台宕机时，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种掩模版，包括基底和掩模结构，所述掩模结构固定在所述基底之上，所述掩模结构具有图案，其特征在于，所述图案由121个第十一图形构成，当俯视所述图案时，所述第十一图形呈11×11的矩阵排列，所述第十一图形包括第一图形、第二图形、第三图形和第四图形；

2.根据权利要求1所述的一种掩模版，其特征在于，所述第一线条L的数量为22，排数相邻的所述第一线条的间距为30000nm；每排所述第一线条中的所述第五图形组与所述第六图形组上下排列且左右对齐，每排所述第一线条中的所述第五图形组与所述第六图形的间距为16B；所述第五图形组中每个所述第五图形的间距为Q，其中Q为大于0的自然数，所述第...

【技术特征摘要】

1.一种掩模版，包括基底和掩模结构，所述掩模结构固定在所述基底之上，所述掩模结构具有图案，其特征在于，所述图案由121个第十一图形构成，当俯视所述图案时，所述第十一图形呈11×11的矩阵排列，所述第十一图形包括第一图形、第二图形、第三图形和第四图形；

2.根据权利要求1所述的一种掩模版，其特征在于，所述第一线条l的数量为22，排数相邻的所述第一线条的间距为30000nm；每排所述第一线条中的所述第五图形组与所述第六图形组上下排列且左右对齐，每排所述第一线条中的所述第五图形组与所述第六图形的间距为16b；所述第五图形组中每个所述第五图形的间距为q，其中q为大于0的自然数，所述第六图形组中每个所述第五图形的间距也为q；定义所述第五图形组中，前n-1个所述第五图形中相邻的所述第二线条之间的间距依次为m1、m2、…、mn-1，其中m1、m2、…、mn-1的数值各不相同且都大于0；定义所述第六图形组中，前n-1个所述第五图形中相邻的所述第二线条之间的间距依次也为m1、m2、…、mn-1；所述第五图形的外轮廓为正方形，所述第五图形的外轮廓的边长为22b；同一排所述第五图形组中，左右相邻的所述第五图形的间距为60000-22b；

3.根据权利要求2所述的一种掩模版，其特征在于，假设第一排所述第一线条中所述第二线条的线宽b＝a，其中a为大于1的自然数，从第一排所述第一线条至第l排所述第一线条中的所述第二线条依次命名为x1，x2，…，x22，则x1、x2、…、x22的线宽依次为4a/3、5a/3、2a、8a/3、10a/3、4a、14a/3、16a/3、6a、20a/3、22a/3、8a、26a/3、28a/3、10a、35a/3、40a/3、50a/3、20a、25a、100a/3。

4.根据权利要求3所述的一种掩模版，其特征在于，每排所述第五图形组中包括10个所述第五图形；在所述第五图形组中，从左至右...

【专利技术属性】
技术研发人员：迟祖超，
申请(专利权)人：宁波冠石半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：