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本发明公开了一种工艺控制方法和装置，该方法包括：选取当前工艺下的历史数据样本，所述历史数据样本包括当前工艺的光谱强度数据和待预测参数；依据所述历史数据样本，构建以光谱强度数据为输入变量，以待预测参数为输出变量的预测模型；基于该预测模型，对本...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。