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本发明实施例提供了一种集成电路的版图设计方法、装置、设备和存储介质，本发明可以通过在数据库中查询用户选择的工艺类型对应的初始保护环掩膜层间距，再预设算法对初始保护环掩膜层间距进行优化，从而根据优化后的保护环掩膜层间距生成集成电路的版图；本发...
该专利属于珠海格力电器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海格力电器股份有限公司授权不得商用。

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