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本发明公开了一种离子注入剂量控制系统及控制方法，涉及离子注入机，属于半导体制造领域。该系统包括剂量积分器、扫描发生器、ＮＩ运动控制器和ＮＩ实时测量与控制器。本发明的优点是能够显著地提高离子注入剂量值和均匀性的精度以及自恢复功能。...
该专利属于北京中科信电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京中科信电子装备有限公司授权不得商用。

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