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GaN外延基板制造技术
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文档序号:43465266
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本发明涉及GaN外延基板,其包含GaN基板、和在上述GaN基板上外延生长而成的GaN缓冲层,上述GaN外延基板包含存在于上述GaN基板中或上述GaN缓冲层中的点A、和存在于上述GaN缓冲层中且Fe浓度为上述点A的Fe浓度的1/100的点B,...
该专利属于三菱化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱化学株式会社授权不得商用。
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