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本发明提供用于集成光子/电子器件的衬底表面刻蚀方法与刻蚀设备。首先在衬底表面形成图案化的阻挡层，所述衬底表面存在未被阻挡层覆盖而裸露的区域，然后将所述衬底置于包含微纳米颗粒的混合液中，将声波传递至所述混合液，在声波作用下所述微纳米颗粒撞击所...
该专利属于甬江实验室所有，仅供学习研究参考，未经过甬江实验室授权不得商用。

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