温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开了用于GaAs刻蚀工艺的自适应优化方法及装置，涉及半导体工艺相关领域，该方法包括：引入工艺环境信息，按照工艺环境信息利用GaAs刻蚀工艺进行实验，获得工艺实验结果同步至工艺性能评估模型，得到工艺性能评估结果定义待优化刻蚀工艺参数集...
该专利属于江苏永鼎股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏永鼎股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。