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在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的装置，包括：光源和依次位于所述光源的光路上的：空间滤波器；凹面镜；第三反射镜和第四反射镜；凸透镜，位于曝光位置处；接收屏，位于所述凸透镜的后焦面上。本实用新型通过第三反射镜和第四反射镜使产生的干涉条纹的...
该专利属于上海理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海理工大学授权不得商用。

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