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本技术涉及金刚石膜生长设备领域，尤其涉及一种热丝化学气相沉积设备的热丝架装置。四根水冷电极垂直安置在沉积腔室底板上，前钼电极固定在一组水冷电极的上端，后钼电极固定在另一组水冷电极的上端，加热丝固定板固定在前钼电极底部；在沉积腔室底板上且靠近...
该专利属于中国科学院金属研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院金属研究所授权不得商用。

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