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本发明提供一种具有叠层多晶硅的隧穿氧化物钝化接触结构及其制备方法，隧穿氧化物钝化接触结构包括设置在晶硅衬底上的纳米氧化硅薄膜，以及交替设置在所述纳米氧化硅薄膜上的掺磷多晶硅薄膜和多元素掺杂多晶硅薄膜，所述多元素掺杂多晶硅薄膜中掺杂有磷元素和...
该专利属于中科研和（宁波）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中科研和（宁波）科技有限公司授权不得商用。

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