温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种SRAM结构,包括:设于衬底表面上的SRAM位单元;所述SRAM位单元设有作为上拉晶体管的第一晶体管和第二晶体管,作为下拉晶体管的第三晶体管和第四晶体管,以及作为传输门晶体管的第五晶体管和第六晶体管;所述第五晶体管和所述第六...该专利属于上海集成电路制造创新中心有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海集成电路制造创新中心有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种SRAM结构,包括:设于衬底表面上的SRAM位单元;所述SRAM位单元设有作为上拉晶体管的第一晶体管和第二晶体管,作为下拉晶体管的第三晶体管和第四晶体管,以及作为传输门晶体管的第五晶体管和第六晶体管;所述第五晶体管和所述第六...