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本发明公开了一种版图DFM方法，包含：步骤1,制作一测试掩膜版，在所述的测试掩膜版上制作测试图形；通过测试掩膜版上的测试图形进行测试晶圆的制作，通过测试晶圆的制作测出所述的测试掩膜版上的测试图形在测试晶圆上形成的实际图形，然后进行外延层的淀...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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