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本发明涉及光学加工技术领域，尤其涉及一种基于神经网络的光学元件污染层分布预测方法。包括：进行n组不同加工参数下的光学元件加工实验，收集工艺参数数据，建立n组数据集；采集和所述工艺参数数据对应的污染层分布数据；将n组数据集按比例分为训练集和测...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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