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本发明提供一种快速判断晶圆表面亲疏水性的方法，提供待检测亲疏水性的前层结构，在前层结构进行旋涂光刻胶之前需去除增粘剂或不形成增粘剂；在前层结构上形成光刻胶层；选取透光率高于预设值的掩膜版，掩膜版上包括特定图形，特定图形能够根据亲疏水性呈现出...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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