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SRAM栅极间隔件结构制造技术
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文档序号:43377529
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本发明公开了用于制造包括半导体器件的装置的装置和技术。该半导体器件可包括一个或多个静态随机存取存储器(SRAM)晶体管,每个静态随机存取存储器(SRAM)晶体管包括第一栅极间隔件结构;一个或多个逻辑标称晶体管,每个逻辑标称晶体管包括第二栅极...
该专利属于高通股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过高通股份有限公司授权不得商用。
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