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本申请提供了VCSEL芯片刻蚀工艺质量控制方法及装置，涉及半导体制造技术领域，包括：根据芯片生产端，接收芯片刻蚀任务；根据芯片刻蚀目标层对应的刻蚀目标层信息对芯片刻蚀工艺因子进行配准关联，建立芯片刻蚀控制配准空间；根据芯片刻蚀质量约束对芯片...
该专利属于江苏永鼎股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏永鼎股份有限公司授权不得商用。

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