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本发明是应用于半导体制程中刻蚀部分针对多种化学药液再回收利用的技术，具体为一种多种化学品药液分离、重复使用装置，可将多种化学药液分离，再将回收的化学药液配比成可重复使用的浓度，实现再利用，该技术可大大减少刻蚀过程中化学药液的浪费。该装置主要...
该专利属于沈阳芯源微电子设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯源微电子设备有限公司授权不得商用。

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