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本文要求保护的发明涉及电介质抛光组合物及其方法。本文要求保护的发明特别地涉及一种组合物，该组合物包含：(A)表面改性的胶体二氧化硅颗粒，其在该颗粒的表面上包含带负电荷的基团，其中该表面改性的胶体二氧化硅颗粒具有负电荷，60nm至200nm的...
该专利属于巴斯夫欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过巴斯夫欧洲公司授权不得商用。

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