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本发明公开了一种大功率LED用高环境稳定性反射电极材料的制备方法，涉及光电子器件技术领域。本发明先使用准分子激光退火工艺制备多晶硅衬底，能使得多晶硅生长底层的晶粒充分生长，降低粗糙度和改善电压不均匀的问题。其次，在多晶硅层衬底表面形成双层石...
该专利属于方博科技（常州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过方博科技（常州）有限公司授权不得商用。

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