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本发明公开了一种静电卡盘及等离子体装置，静电卡盘设有多路背吹气体通路，其中一路与升针孔贯穿或连接。多路背吹气体通路可以由一路供气管路供气，也可以由多路供气管路供气。背吹气体通路相对于基片和静电卡盘之间的间隙是很大的，在基片加工工艺结束后，通...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。