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本发明涉及一种薄膜构图方法及制造液晶显示装置的方法，该薄膜构图方法包括：步骤１，基板上沉积第一薄膜，并涂布光刻胶；步骤２，采用双调掩模板对光刻胶进行曝光和显影后，形成第一区域、第二区域和第三区域；步骤３，对第一薄膜进行过刻，在第三区域去除第...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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