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本发明涉及一种液晶显示装置的阵列基板制造方法，该方法形成栅线和数据线并且在薄膜晶体管沟道上形成钝化层后，在形成过孔和像素电极时，采用一个单调掩模板从基板正面曝光光刻胶并且形成采用一个双调掩模板时能够形成的透射区域和非透射区域；通过适当减小用...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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