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本发明公开了一种清洗装置,包括喷洒机构、清理机构和用于放置晶圆的载置台和位于所述载置台外侧的防护组件。所述喷洒机构包括气雾喷洒组件和正面纯水喷洒组件,以及位于晶圆下方的背面纯水喷洒组件。所述清理机构包括侧面清理刷和表面清理刷。本方案通过设置...该专利属于合肥开悦半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥开悦半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种清洗装置,包括喷洒机构、清理机构和用于放置晶圆的载置台和位于所述载置台外侧的防护组件。所述喷洒机构包括气雾喷洒组件和正面纯水喷洒组件,以及位于晶圆下方的背面纯水喷洒组件。所述清理机构包括侧面清理刷和表面清理刷。本方案通过设置...