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本发明公开一种镀膜布制造方法，其包括如下步骤：步骤S1，提供若干缠绕有纱线的纱线卷；步骤S2，将纱线卷上的纱线呈等间距且并排的水平穿过第一镀膜装置的第一沉积腔，第一镀膜装置为PECVD镀膜装置，穿过第一镀膜装置的纱线在第一沉积腔内进行等离子...
该专利属于黄剑鸣所有，仅供学习研究参考，未经过黄剑鸣授权不得商用。

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