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本发明公开了一种晶圆清洗装置及晶圆封装设备,晶圆清洗装置包括清洗槽、盖板组件和喷淋组件,清洗槽中放置有装载晶圆的料篮,盖板组件安装并可开合地覆盖在清洗槽的上方开口,喷淋组件安装在盖板组件上且喷口朝向清洗槽内,通过盖板组件改变喷淋组件的喷口向...该专利属于上海新阳半导体材料股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海新阳半导体材料股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种晶圆清洗装置及晶圆封装设备,晶圆清洗装置包括清洗槽、盖板组件和喷淋组件,清洗槽中放置有装载晶圆的料篮,盖板组件安装并可开合地覆盖在清洗槽的上方开口,喷淋组件安装在盖板组件上且喷口朝向清洗槽内,通过盖板组件改变喷淋组件的喷口向...