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本发明提供一种光刻系统和光刻系统的制作方法，其中，光刻系统包括：发光结构；全息掩模板；聚焦透镜组，所述聚焦透镜组位于所述发光结构至所述全息掩模板的光路中；所述全息掩模板中包含全息图形，透过所述全息图形的曝光光束适于在所述聚焦透镜组的焦平面位...
该专利属于光科芯图(北京)科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光科芯图(北京)科技有限公司授权不得商用。

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