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本技术属于硅片清洁技术领域，提出一种一体式清洗槽，该一体式清洗槽包括第一槽体和第二槽体，第一槽体设置于第二槽体的内部，在向第一槽体的内部添加高浓度清洗液时，第一槽体内的低浓度清洗液与新添加的高浓度清洗液混合后的混合清洗液体积增加，部分混合清...
该专利属于苏州晶洲装备科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州晶洲装备科技有限公司授权不得商用。

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