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本发明涉及一种聚氨酯稀土抛光材料及其制备方法，属于高分子复合材料和化学机械平面化处理的抛光技术领域。聚氨酯稀土抛光材料，按照重量份数计，包括：含有异氰酸酯基团的化合物（A）1000份，醇胺混合物（B）200～550份，抛光粉（C）150～4...
该专利属于内蒙金属材料研究所所有，仅供学习研究参考，未经过内蒙金属材料研究所授权不得商用。

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