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用于集成电路(IC)纳米范围互连制造的系统和方法技术方案
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下载用于集成电路(IC)纳米范围互连制造的系统和方法的技术资料
文档序号:43138567
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根据示例,用于集成电路(IC)的互连系统可以通过以下来制造:用光刻胶层处理嵌入有铜阱的基板,使得光刻胶层的剩余部分暴露铜阱的部分;在晶圆的顶表面上方沉积阻障层,在阻障层上方沉积种子铜层;在种子铜层上方沉积铜层;使铜层和部分阻障层平坦化;在基...
该专利属于元平台公司所有,仅供学习研究参考,未经过元平台公司授权不得商用。
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