下载用于集成电路(IC)纳米范围互连制造的系统和方法的技术资料

文档序号:43138567

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根据示例,用于集成电路(IC)的互连系统可以通过以下来制造:用光刻胶层处理嵌入有铜阱的基板,使得光刻胶层的剩余部分暴露铜阱的部分;在晶圆的顶表面上方沉积阻障层,在阻障层上方沉积种子铜层;在种子铜层上方沉积铜层;使铜层和部分阻障层平坦化;在基...
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