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本发明提供一种化学机械抛光组合物，其包含：(a)氧化铈磨粒；(b)阳离子性聚合物；(c)缓冲液；和(d)水，其中所述抛光组合物具有约6至约9的pH值。本发明还提供一种使用本发明的抛光组合物化学机械抛光衬底、尤其包含硅氧化物、硅氮化物和多晶硅...
该专利属于CMC材料有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过CMC材料有限责任公司授权不得商用。

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