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一种SRAF布局方法、光刻掩膜版制作方法、装置、系统、介质及设备。所述SRAF布局方法包括：获取已布局的曝光图形数据；将所述已布局的曝光图形数据输入至预设残差网络模型；利用所述预设残差网络模型对所述已布局的曝光图形数据进行处理，得到最终掩膜...
该专利属于浙江创芯集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江创芯集成电路有限公司授权不得商用。

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