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本发明公开了一种掩膜图形处理方法、系统、掩膜版、电子设备和介质，方法包括：提供目标图形；其中，目标图形通过调节第一初始图形和第二初始图形对应的尺寸参数所确定；利用目标函数对目标图形进行像素优化处理，以确定光罩图形，进而依据光罩图形确定掩膜图...
该专利属于深圳国微芯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳国微芯科技有限公司授权不得商用。

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