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本技术公开一种用于CVD设备的加热装置及CVD设备，涉及半导体技术领域。该用于CVD设备的加热装置包括托盘、导热件、旋转连接件和加热元件，导热件沿托盘的边缘围设在托盘的下表面，旋转连接件固定设置在导热件远离托盘的端面，旋转连接件用于与CVD...
该专利属于中晟半导体（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中晟半导体（上海）有限公司授权不得商用。

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