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本发明公开了一种应用于化学气相沉积的混气装置，其包括具有出气面的混气本体，所述混气本体上设有至少一组混气气路以及清洁气路；所述混气气路包括：主进气气路，连通于所述主进气气路的出口的至少两个分气气路，所述分气气路的出口延伸至所述出气面，所述清...
该专利属于拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司授权不得商用。

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