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本发明提供了一种光强的计算方法、装置、设备及介质，利用阿贝成像原理结合光学薄膜叠层的折射和反射效应对光的偏振进行计算，得到光源单点对像平面电场强度的关系式；基于所述关系式利用光源的偏振对电场强度在光源范围内进行积分，并利用霍普金斯成像公式对...
该专利属于上海集成电路制造创新中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路制造创新中心有限公司授权不得商用。

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