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本发明提供一种化学‑机械抛光组合物，其包含：(a)氧化铈磨料粒子；(b)阳离子聚合物；(c)选自铵盐、钾盐及其组合的电导率调整剂；及(d)水，其中所述抛光组合物具有约3到约6的pH。本发明还提供一种使用本发明抛光组合物化学‑机械抛光衬底、尤...
该专利属于CMC材料有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过CMC材料有限责任公司授权不得商用。

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