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本申请提供了一种光致抗蚀剂、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法，光致抗蚀剂包括成膜树脂、光致酸产生剂、添加剂和溶剂，所述添加剂包括抗老化剂；所述抗老化剂包括结构式为的化合物，其中，R<supgt;1</supgt;、...
该专利属于珠海基石科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海基石科技有限公司授权不得商用。

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