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本发明提供一种光刻设备和一种辐射至少两个目标部分的方法。所述光刻设备包括台、位于所述台上的或位于所述台上的物体上的至少两个目标部分以及所述至少两个目标部分之间的表面材料。所述设备还包括光学系统，所述光学系统配置用于沿着光路朝向所述台投影辐射...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

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