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本发明涉及半导体加工领域，提供一种晶圆表面图像处理方法、装置、设备和介质，该方法包括：S1，获取暗场下包含晶圆表面的原始灰度图像，生成原始背景图像；S2，使用频域降噪对所述原始灰度图像进行背景亮度均匀性校正，以获得第一灰度图像；S3，使用高...
该专利属于上海御微半导体技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海御微半导体技术有限公司授权不得商用。

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