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一种新型Ge上PtSe2薄膜的制备方法技术
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文档序号:42902619
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本发明涉及一种新型Ge上PtSe<subgt;2</subgt;薄膜的制备方法,属于化学气相沉积法制备新型二维纳米材料领域。该方法包括:(a)将Ge衬底依次在丙酮、无水乙醇、去离子水中超声清洗,清洗完成后浸泡在稀释的HF中,取出...
该专利属于闽南师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过闽南师范大学授权不得商用。
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