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一种封装结构及其制造方法,属于微电子制造技术领域。封装结构包括:半导体衬底、接触焊盘、钝化层、应力缓冲层以及形成与应力缓冲层上的柱状凸块,其中,应力缓冲层中与任意一柱状凸块结构对应的区域都设置有主开口、以及一个或一个以上的辅助开口,所述辅助...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种封装结构及其制造方法,属于微电子制造技术领域。封装结构包括:半导体衬底、接触焊盘、钝化层、应力缓冲层以及形成与应力缓冲层上的柱状凸块,其中,应力缓冲层中与任意一柱状凸块结构对应的区域都设置有主开口、以及一个或一个以上的辅助开口,所述辅助...